公司經(jīng)銷美國OAI INSTRUMENTS曝光機、OAI INSTRUMENTS光刻機、OAI INSTRUMENTS光源、OAI INSTRUMENTS、OAI INSTRUMENTS光功率計、OAI INSTRUMENTS分析儀。

     OAI INSTRUMENTS是業(yè)內(nèi)生產(chǎn)可靠并精密設(shè)備的MEMS，半導(dǎo)體，納米技術(shù)，潔凈室自動化和紫外線光測量的**制造商。OAI系統(tǒng)可同時用于研發(fā)和生產(chǎn)半導(dǎo)體，MEMS和微流體裝置。從光罩對準(zhǔn)和UV光源UV電力儀表，OAI是在同行業(yè)中的*者超過35年。OAI光功率計以其測量精度，重復(fù)性著稱，測量數(shù)據(jù)符合美國NIST標(biāo)準(zhǔn)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻能量測量及控制。

產(chǎn)品范圍：

美國OAI INSTRUMENTS曝光機、OAI INSTRUMENTS光刻機、OAI INSTRUMENTS光源、OAI INSTRUMENTS、OAI INSTRUMENTS光功率計、OAI INSTRUMENTS分析儀

主要型號：

Model 306、Model 308、Model 311、Model 316、Model 317、Model 356、Model 357、Model 358、Model 457、Model 458、Model 459

美國OAI INSTRUMENTS Model 800半自動光刻機簡介：

光刻方式：接近式，軟，硬，真空接觸式

曝光距離：0-3000μm

間隙調(diào)節(jié)步進(jìn)：1um

機械精度：1.5um

光刻精度：軟接觸2um,硬接觸小于1um

美國OAI INSTRUMENTS Model 6000全自動光刻機技術(shù)規(guī)格：

光刻方式：接近式，軟，硬，真空接觸式

基底尺寸：2-12寸晶圓或者*大200mm方形

曝光分辨率：

真空接觸:0.5-0.8um

硬接觸:0.8-1.0um

軟接觸:1.0-3.0um

接近式(20um 間隙):3.0um

曝光均勻性：優(yōu)于±3*

對準(zhǔn)精度：頂面0.5um，底面1.0um（選件）

產(chǎn)量：180片/小時*大

我們的宗旨：信義為根，嚴(yán)謹(jǐn)為本，凝心聚力，行思行遠(yuǎn)

我們的管理：張弛有度，目標(biāo)*

我們的團隊：****，隊堅勢盛

我們的服務(wù)：掌握市場動態(tài)，傾聽客戶需求

我們的價格：同等質(zhì)量比價格,同等價格比質(zhì)量,同質(zhì)同價比服務(wù)